傳統(tǒng)藥物開(kāi)發(fā)中,化合物庫(kù)合成與生物篩選面臨“高成本、低通量、長(zhǎng)周期”的三重挑戰(zhàn),單藥研發(fā)成本超20億美元,且96孔板等傳統(tǒng)平臺(tái)難以滿足微量樣本的高效利用需求[1,2]。德國(guó)卡爾斯魯厄理工學(xué)院團(tuán)隊(duì)聯(lián)合I.DOT非接觸式液滴分配技術(shù),推出光控釋放液滴微陣列(DMA)平臺(tái),首次實(shí)現(xiàn)從納摩爾級(jí)固相合成到活細(xì)胞篩選的全流程集成。該平臺(tái)通過(guò)I.DOT精準(zhǔn)操控100nL級(jí)液滴反應(yīng)單元,結(jié)合UV觸發(fā)化合物釋放機(jī)制,將試劑消耗降低至傳統(tǒng)方法的1/1000,為高通量藥物發(fā)現(xiàn)開(kāi)辟全新路徑。
納米多孔聚合物涂層:在玻璃基底制備12μm厚HEMA-EDMA聚合物層,通過(guò)硫醇-炔點(diǎn)擊化學(xué)構(gòu)建親水(接觸角4.4°)/超疏水(接觸角170°)圖案,形成3mm圓形(5μL)或1mm方形(100nL)液滴陣列(圖1)。I.DOT技術(shù)通過(guò)氣壓脈沖(75-300mbar?ms)實(shí)現(xiàn)非接觸式液滴生成,體積誤差<1%,單細(xì)胞接種成功率>95%。
圖1. 液滴微陣列平臺(tái)結(jié)合高通量固相合成和基于細(xì)胞的篩選。A)多孔聚甲基丙烯酸酯薄膜(12 μm)用氟烷基和半胱胺部分官能化以分別產(chǎn)生SH和反應(yīng)性HL區(qū)域。UV-可切割的連接體(羥乙基光連接體,HEPL)共價(jià)固定在HL斑點(diǎn)中,形成后續(xù)固相組合合成的基礎(chǔ)。B)顯示可能的基于細(xì)胞的篩選順序的方案:合成的化合物可以通過(guò)在365 nm下的UV照射ii)釋放到在HL斑點(diǎn)中形成的不同納米液滴中,以在生物測(cè)定(i)中篩選或分析,例如,通過(guò)MALDI-TOF質(zhì)譜法(iv),隨后進(jìn)行純化步驟
UV 可裂解連接劑錨定:將羥基乙基光連接劑(HEPL)通過(guò)酯鍵固定于親水斑點(diǎn),其硝基基團(tuán)在 365 nm UV 光下可快速還原為亞硝基,釋放共價(jià)結(jié)合的化合物(圖2)。

圖2. A)將CHL附著到HEPL上,隨后在UV-照射下釋放,在表面上留下裂解的光致連接物(c-HEPL)。B)通過(guò)對(duì)不同照射時(shí)間后的溶液進(jìn)行光譜分析,確定了作為模型藥物的CHL從表面釋放到5μL液滴中的UV觸發(fā)動(dòng)力學(xué)。每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)是三次實(shí)驗(yàn)的平均值。誤差線表示標(biāo)準(zhǔn)差。C)通過(guò)UV光對(duì)HEPL裂解的空間控制。在接頭裂解期間,顯黃色。制備液滴微陣列,并在通過(guò)光掩模照射之前在所有HL斑點(diǎn)中用HEPL修飾。頂部圖案:2688個(gè)正方形斑點(diǎn),邊長(zhǎng)500 μm,邊框250 μm。使用“KIT Levkin Lab”徽標(biāo)作為倒置光掩模。底部圖案:以棋盤(pán)圖案照射80個(gè)直徑為3 mm的圓點(diǎn)。UV連接體HEPL可完全控制化合物的空間釋放。
組合化學(xué)高通量合成:利用I.DOT的高通量分配能力,在1 mm方形斑點(diǎn)中依次分配30 nL胺溶液、35 nL羧酸溶液和40 nL異氰化物溶液(0.5MGBL體系),通過(guò)非接觸式打印避免交叉污染。5種表面錨定氨基酸、3種異氰化物、7種羧酸和8種羰基化合物組合,理論生成840種雙酰胺產(chǎn)物(圖3)。

圖3. Ugi四組分反應(yīng)的示意圖,具有表面錨定的胺(1-5)、羧酸(9-15)、醛或酮(16-23)和異氰化物(6-8)以及形成的雙酰胺(產(chǎn)物24-36)的可變條目。底部:固相化學(xué)的詳細(xì)表示。連接到聚合物層的每個(gè)4-戊炔酸充當(dāng)分支點(diǎn)并帶有兩個(gè)連接分子,有效地使反應(yīng)位點(diǎn)的總數(shù)加倍。
自動(dòng)化流程整合:I.DOT與MALDI-TOF聯(lián)用,通過(guò)三明治轉(zhuǎn)移技術(shù)將液滴產(chǎn)物復(fù)制到ITO玻片,實(shí)現(xiàn)高通量質(zhì)譜表征(圖4)。

圖4.將微滴微陣列復(fù)制到ITO載玻片上用于MALDI-TOFMS測(cè)量的過(guò)程。A)定位裝置有助于將兩個(gè)載玻片彼此對(duì)準(zhǔn)。左側(cè)是具有經(jīng)照射的液滴微陣列的底部部分,而右側(cè)是具有ITO載玻片(已經(jīng)壓印有基質(zhì))的頂部部分。B)封閉式密封裝置。兩側(cè)的兩個(gè)連接器將兩半拉在一起,而距離由四個(gè)螺釘控制。降低頂部,直到所有液滴接觸ITO載玻片。C)干燥DMA(14×141 mm HL點(diǎn),頂部)、每個(gè)點(diǎn)中具有100 nL水的DMA(中間)和UV照射后的干燥陣列(底部)的合并照片。D)復(fù)制液滴中含有基質(zhì)混合物(CHCA/DHB)的液滴微陣列并真空干燥后的ITO載玻片。E)作為鈉加合物的化合物37的MALDI-TOF光譜([M+Na]+,檢測(cè):717.55m/z,計(jì)算:717.38u)和F)基質(zhì)背景。首先通過(guò)UV照射將化合物切割成不同的液滴,然后向每個(gè)斑點(diǎn)中加入100 nL CHCA和DHB基質(zhì)在10% ACN/水(含有5×10?3M HCl)中的飽和溶液,并將DMA載玻片固定在ITO載玻片上以復(fù)制陣列。將ITO載玻片真空干燥并通過(guò)MALDI-MS分析。
I.DOT 細(xì)胞接種與活性檢測(cè):以氯ambucil(CHL)為模型藥,I.DOT將CHO-K1細(xì)胞(1×10?cells/mL)精準(zhǔn)接種至DMA斑點(diǎn),UV照射(2.5 mW/cm2,15 min)觸發(fā)CHL釋放,通過(guò)Calcein-AM/PI染色評(píng)估細(xì)胞活力。
圖5. 將CHO-K1細(xì)胞接種在DMA上,并在孵育24小時(shí)后,通過(guò)鈣黃綠素AM/PI染色不同處理的表面來(lái)測(cè)定其活力。活力不受紫外光或固定化CHL的存在下。細(xì)胞活力僅在用附著的CHL照射表面后降低,這導(dǎo)致藥物釋放到液滴中。每個(gè)柱代表同一實(shí)驗(yàn)重復(fù)三次的平均值。誤差線表示標(biāo)準(zhǔn)差。
時(shí)空精準(zhǔn)調(diào)控:I.DOT配合光掩模實(shí)現(xiàn)區(qū)域選擇性釋放,如“KIT” logo圖案化釋放驗(yàn)證空間控制精度(圖2C);CHL釋放動(dòng)力學(xué)顯示,15分鐘內(nèi)可達(dá)最大濃度954 μM(圖2B),滿足細(xì)胞篩選的劑量需求。
細(xì)胞水平驗(yàn)證:UV觸發(fā)CHL釋放后,CHO-K1細(xì)胞存活率從97%降至3%,而未照射組或無(wú)藥組存活率無(wú)顯著變化,證明I.DOT構(gòu)建的微環(huán)境可精準(zhǔn)模擬藥物-細(xì)胞互作。
微型化優(yōu)勢(shì):1 mm方形斑點(diǎn)較3 mm圓形斑點(diǎn),單位面積反應(yīng)密度提升7.5倍(30spots/cm2),單玻片可構(gòu)建588種化合物庫(kù),較96孔板通量提升6倍。I.DOT的非接觸式分配使試劑消耗從20 μL/樣本降至100nL/樣本,成本降低99%。
產(chǎn)物多樣性與純度:13種代表性產(chǎn)物純度21%-91%(LC-MS分析),MALDI-TOF驗(yàn)證顯示I.DOT輔助合成的化合物結(jié)構(gòu)一致性達(dá)95%以上。
I.DOT驅(qū)動(dòng)的技術(shù)革新展現(xiàn)出顯著的核心技術(shù)價(jià)值,其非接觸式分配與DMA光控釋放結(jié)合,實(shí)現(xiàn)“合成-釋放-篩選”全流程自動(dòng)化閉環(huán),較傳統(tǒng)多平臺(tái)操作減少7次樣本轉(zhuǎn)移,誤差降低80%,且支持單日處理超1000樣本,單細(xì)胞cDNA回收率達(dá)85%,平衡了高通量與低耗需求。在轉(zhuǎn)化醫(yī)學(xué)應(yīng)用中,可用于腫瘤藥敏個(gè)性化篩選,48小時(shí)內(nèi)完成評(píng)估,周期縮短70%,還能精準(zhǔn)控制信號(hào)分子濃度以維持胚胎干細(xì)胞多能性,未來(lái)將開(kāi)發(fā)亞微米級(jí)斑點(diǎn)提升庫(kù)容量至10?級(jí),并集成微流控灌注系統(tǒng)模擬體內(nèi)藥代動(dòng)力學(xué)。
1. J. A. DiMasi, H. G. Grabowski, R. W. Hansen, J. Health Econ. 2016, 47, 20.
2. H. E. Blackwell, Curr. Opin. Chem. Biol. 2006, 10, 203.

